理学磁流体密封在清洁/真空机器人等多种用途中，积极致力于满足广大客户的需求。 随着FPD基板和半导体晶片的尺寸的大型化，利用理学的经验技术支持定位精度，减少了轴跳动。 此外，我们还满足客户的多样化需求，例如与差压密封和波纹管密封（直线往复运动）组合是磁流体密封...

长期以来，理学已经成为全球知名CVD设备制造商的主要供应商。 经过长时间的技术研发和试验，研制出在高温条件下也不产生气体的新型磁性流体。这种新型磁性流体和理学磁流体密封的的独自结构相结合，成功的为CVD装置提供了长寿命的磁性流体密封...

理学磁流体密封理学的磁流体密封件在太阳能电池、触控面板和平板显示器所需的生产透明导电膜和抗反射膜的溅射设备上，有丰富的生产业绩和经验。 可适用于对向靶法、离子束法、磁控管法、ECR法、反应喷射法等各种方式的溅射设备的需求...

高速传动时能把摇摆和共振控制控制在最小范围。 使用理学独创的技术，抑制共振，实现高速旋转。 即使在高温、高真空和高负载规格下，它也具有长寿命，能把轴的摇摆跳动达到最小。 我们可以为所有类型的离子注入装置提供磁流体密封..

为了提升超过φ300mm晶体的铸锭，MCZ方式、尖端磁场（Cusp magnetic field）方式等需要强大的磁场力，因此所采用的磁性流体密封必须不受磁场影响，这是绝对条件。理学独特的磁性流体密封结构，配合SSi研究所开发出提拉出φ 400mm铸锭做出了贡献。在实践中验证了理学磁流体密封的技术实力..

最适合于样品吸附 搬运晶片和液晶玻璃时，或旋涂机等的瞬间高速旋转时，可以牢固地吸附样品而不会损坏样品。 因为通过磁性密封抽真空节省了设备的空间,致使整个设备的紧凑性以及稳定的旋转性能更加合理，真空吸盘用磁性密封的需求在逐渐增加...

蚀刻设备使用的规格和加工方法种类繁多，活性气体、高温、高速旋转、等离子、电极、离子素、强磁场、漏磁等。传统的的磁流体密封很难全面支持和对应。 理学的磁流体密封装置为能够早日解决以上问题，和广大用户一起在持续不懈的进行技术研发...

LED（Light Emitting Diodes）作为一种新的照明光源而备受瞩目，是将电能转换为光的半导体。 它具有长寿命、省电、高耐用、高亮度等特点，被广泛应用于大型显示​​器、LCD背光源、汽车大灯、照明等各种产品中，并迅速普及和发展。 LED 的制造，是通过在蓝晶电路板衬底上生长 GaAs、GaP 和 GaN 等薄膜制成的外延片是必不可少的材料..

所谓的卷对卷（roll-to-roll）成膜，就是将卷状薄膜电路板在真空中展开，通过溅射、气相沉积或CVD等方法连续镀膜，然后再次卷绕成卷，这是一种柔性薄膜沉积的方法。 卷对卷的成膜方式，以显示器，太阳能电池等为起点，柔性镀膜是制造量产化的重要技术工艺之一...

X射线发生器的原理是在高真空中，通过电子与高速旋转靶的碰撞而产生X射线。 这个设备上也在使用理学的磁性流体密封..

理学磁流体密封被用于消化槽的轴密封上，处理在生活废水和工厂废水的过程中产生的“污泥”。 磁性流体密封可以防止污泥中的有机物在发酵过程中产生的甲烷和有毒的硫化氢等气体外泄。 另外，与传统的水密封方法相比，减少了维护工序..

通过磁流体密封装置导入气体大致分为两种类型。一种是磁流体密封的自身净化用；一种是把气体导入设备内部。 两种使用方式的共同点是通过磁流体密封装置，是整个装置更加合理、高效率..

干燥涂层主要应用在真空中基础材料的表面上的镀膜技术，有金属也有陶瓷。 以金刚石碳(DLC)、TiN、TiCN等薄膜为代表，广泛应用于切削工具、模具、汽车零件、医疗器具、家电产品及其制造设备等领域。 基材表面耐磨性、低摩擦、耐腐蚀、耐氧化性等优良效果，可以通过涂层薄膜，大大提高产品的性能、寿命和使用范围。 通过对基础材料表面涂覆薄膜，在耐磨损性、低摩擦、耐腐蚀性、耐酸化性上十分出色,对这些薄膜产品的性能、寿命、使用范围等,可以大幅提高,对地球资源的有效利用和环境对策方面也有很高的期待价值...

在钢铁和非铁金属材料的热处理中，在减压气氛围中进行的“真空热处理” 技术在品质和环境方面的效果被高度期待。 在真空热处理炉中，“淬火”过程包括将材料在减压炉中保持在高温下，然后循环高压气体使其快速冷却的工序..